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電鍍時(shí)刻影響：

單層鉻鍍層只有達(dá)到適當(dāng)厚度時(shí)，才具有較好的耐腐蝕性。不過(guò)，當(dāng)鉻鍍層厚度達(dá)到65μm以上時(shí)，再增加厚度并不會(huì)進(jìn)一步改進(jìn)其耐蝕功能。一般來(lái)說(shuō)，電鍍時(shí)刻對(duì)硬鉻層厚度的影響很大，而電鍍時(shí)刻的選擇，取決于鍍液主鹽濃度、溫度、電流等工藝條件。

在實(shí)際的電鍍生產(chǎn)過(guò)程中，為控制鍍鉻層厚度，改進(jìn)外圓鍍鉻零件的鍍層均勻性，常選用筒形電鍍陽(yáng)極，并在電鍍過(guò)程中定時(shí)對(duì)合金鋼零件進(jìn)行翻面和調(diào)換方位，以確保獲得的鍍硬鉻層均勻、詳盡。

溫度影響：

鍍硬鉻層的耐磨功能與其硬度休戚相關(guān)，一般硬度越高，耐磨功能越好。硬鉻層的硬度與電鍍時(shí)的溫度、電流密度和溶液成分有關(guān)。當(dāng)鍍液中鉻酐含量固定時(shí)，硫酸根含量升高會(huì)使得鍍層硬度下降。

鍍液溫度越高，硬度越低；電流密度越高，硬度越高。由于高硬度和高應(yīng)力（脆性）往往是相關(guān)的，因此鍍硬鉻層的硬度不宜過(guò)高。

將鍍液溫度控制在35～55℃之間，將電流密度控制在30～50A/dm2之間，可獲得滿足空客鍍鉻層硬度技術(shù)要求（≥700HV）的鍍鉻層。