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新聞資訊
鍍硬鉻鍍層粗糙鉻瘤原因及處理方法
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(1)陰極電流密度過(guò)大

在鍍鉻過(guò)程中,陰極電流密度與溫度之間存在著相互依賴的關(guān)系。在同一溶液中鍍鉻時(shí),經(jīng)過(guò)調(diào)整溫度和電流密度,并操控在適當(dāng)?shù)姆秶鷥?nèi),可以取得亮光鉻、硬鉻和乳白鉻三種不同功能的鍍鉻層。在低溫高電流密度區(qū),鉻鍍層呈灰暗色或燒焦,這種鍍層具有網(wǎng)狀裂紋、硬度大、脆性大;高溫低電流密度區(qū),鉻層呈乳白色,這種組織詳盡、氣孔少、無(wú)裂紋,防護(hù)功能較好,但硬度低,耐磨性差;中溫中電流密度區(qū)或兩者配合較好時(shí),可取得亮光鍍鉻層,這種鉻層硬度較高,有細(xì)而稠密的網(wǎng)狀裂紋。若配合不妥,對(duì)鍍鉻溶液的陰極電流效率、渙散才能、鍍層的硬度和亮光度都有很大的影響。如鍍液溫度高達(dá)70℃左右,那么即便升高電流密度,也難以得到亮光的鍍層。生產(chǎn)上一般選用中等溫度(45~60℃)與中等電流密度(30~45A/dm2)以得到亮光度和硬度較高的鉻鍍層。盡管鍍?nèi)×凉忮儗拥墓に嚄l件適當(dāng)寬,但考慮到鍍鉻液的渙散才能特別差,在形狀復(fù)雜的零件鍍裝飾鉻或硬鉻時(shí),要在不同部位都鍍上厚度均勻的鉻層,有必要嚴(yán)格操控溫度和電流密度。當(dāng)鍍鉻工藝條件確定后,鍍液的溫度變化操控在±2℃以內(nèi)。

處理辦法:

a.準(zhǔn)確核算工件受鍍面積,合理設(shè)定電流值(Dk=40~60A/dm2);

b.適當(dāng)進(jìn)步鍍液溫度,充分考慮溫度與電流密度的匹配


(2)硫酸含量過(guò)低

鉻酐的水溶液是鉻酸,是鉻鍍層的來(lái)歷。實(shí)踐證明,鉻酐的濃度可以在很寬的范圍內(nèi)變化。例如,當(dāng)溫度在45~50℃,Dk=10A/dm2時(shí),鉻酐濃度在50~500g/L范圍內(nèi)變化,甚至高達(dá)800g/L,均可取得亮光鍍鉻層。一般生產(chǎn)中選用的鉻酐濃度為150~400g/L之間。鉻酐的濃度對(duì)鍍液的電導(dǎo)率起決定性效果,鍍液溫度升高,電導(dǎo)率隨鉻酐濃度增加向稍高的方向移動(dòng)。因而,單電導(dǎo)率而言,宜選用鉻酐濃度較高的鍍鉻液。但選用高濃度鉻酸電解液時(shí),由于隨工件帶出損失嚴(yán)峻,不僅形成資料的浪費(fèi),首要的是會(huì)形成嚴(yán)峻的環(huán)境污染。而低濃度鍍液對(duì)雜質(zhì)金屬離子比較靈敏,掩蓋才能較差。鉻酐濃度過(guò)高或過(guò)低都將使取得亮光鍍層的溫度和電流密度的范圍變窄。鉻酐濃度低的鍍液陰極電流效率較高,多用于鍍硬鉻。較濃的鍍液首要用于裝飾電鍍,鍍液的功能盡管與鉻酐含量有關(guān),首要的取決于鉻酐和硫酸的比值。一般操控Cr03:SO42-=(80~100):1,Zuijia值為100:1。當(dāng)SO42-含量過(guò)高時(shí),對(duì)膠體膜的溶解效果強(qiáng),基體顯露的面積大,實(shí)在電流密度小,陰極極化小,得到的鍍層不均勻、發(fā)花,特別是工件凹處還可能顯露基體金屬。當(dāng)SO42-含量過(guò)低時(shí),陰極外表只要很少部位的膜被溶解,即成膜的速度大于溶解的速度,鉻的分出受阻或在局部地區(qū)放電長(zhǎng)大,所以,鍍層發(fā)灰粗糙,光澤性差。

處理辦法:分析調(diào)整鍍液成分,并操控Cr03:SO42-=100:1


(3)陰陽(yáng)極距離太近

進(jìn)步鍍層的均勻性,只要改動(dòng)初度電流散布,即改動(dòng)幾何因素來(lái)進(jìn)步鍍層的均勻性。

處理辦法:操控陰極與陽(yáng)極距離離大于200mm,使工件的相對(duì)幾何尺寸縮小,確保陰極電力線散布均勻。


(4)工件凸凹處未運(yùn)用陰極保護(hù)

進(jìn)步鍍層的均勻性,只要改動(dòng)初度電流散布,即改動(dòng)幾何因素來(lái)進(jìn)步鍍層的均勻性。

處理辦法:選用陰極保護(hù),合理布置陽(yáng)極。


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